zjeeraar schreef op 23 september 2024 09:41:
[...]
Word je een dag wakker met de headline 'China heeft eerste EUV machine gemaakt?
Dan zijn we wel zeker 10 jaren verder als het al zover komt, gezien de huidige ontwikkeling Imec versus ASML.
Imec heeft verschillende soorten patronen afgebeeld met de nieuwe high-NA-machine van ASML.
De resultaten bevestigen volgens Imec-CEO Luc Van den hove de lang voorspelde resolutiemogelijkheden van high-NA-EUV-lithografie, met een pitch van onder de 20nm. Dat moet het mogelijk maken om kleinere transistors af te beelden met een enkele exposure.